Научное оборудование для атомно- (молекулярно) слоевого осаждения и травления покрытий

Read More

Научное оборудование для атомно- (молекулярно) слоевого осаждения и травления покрытий

Область применения
Необходимость закупки государственными научными и образовательными учреждениями России импортных АСО реакторов с высокой прецизионностью оказывает давление на бюджет в связи с большой дороговизной данного оборудования. Основными производителями и поставщиками экспериментально- го АСО оборудования в Россию являются финские компании Beneq и Picosun, имеющие многолетний опыт в производстве АСО реакторов.
Сложное исполнение АСО реакторов, их нацеленность на обеспечение производственных нужд в сфере микроэлектроники (производство микропроцессоров, жестких дисков, силовой электроники, датчиков, микрофонов), чрезмерная укомплектованность и сложность исполнения увеличивают в разы стоимость продукции, что часто вынуждает многие организации отказаться от их приобретения.

Инновационные решения 

Продукция 1: Вакуумный аппарат для осаждения тонких пленок методами атомно- или молекулярно- слоевого осаждения на плоских и объёмных подложках (АСО/МСО). Разрабатываемое АСО/МСО оборудование предназначено для прецизионного нанесения на одиночных или пакетов полупроводниковых подложек диаметром до 300 мм или на трехмерных объёмных подложках керамических и органонеорганических функциональных тонких пленок. Применение как для крупносерийного производства, так и научно-исследовательских и опытно-конструкторские работ (НИОКР) в микро- и оптоэлектронике (барьерные слои, пассивационный слои, затравочные слои, маски), медицине (биосовместимые и антибактериальные покрытия).

Тип и размер подложек:  - одна подложка размером до 300 мм;  партия из 10     подложек размером до 300 мм;  трехмерные  подложки: керамика, металл, полимеры, пористые образцы.

Рабочая температура: - от комнатной до 400°С.

Общее количество нагреваемых (до 190°С) и не нагреваемых источников реагентов: - от 4 до 8

Продукция 2: Вакуумный аппарат для осаждения тонких пленок методами плазмохимического атомно- слоевого осаждения или травления на плоских подложках (ПАСО/АСТ). Разрабатываемое ПАСО/АСТ оборудование предназначено для плазма-стимулированного нанесения функциональных тонких пленок (которые сложно наносить конвенциальным АСО) или удаление с одиночных полупроводниковых подложек диаметром до 300 мм тонких пленок. Применение как для производства, так и научно-исследовательских и опытно-конструкторские работ (НИОКР) в микро- и оптоэлектронике (нанесение нитридов, карбидов, металлов (ПАСО); и селективное травление тонких пленок (АСТ)).

Тип и размер подложек: - одна подложка размером до 200 мм;

Рабочая температура: -  от комнатной до 400°С;

Общее количество нагреваемых (до 190°С) и не нагреваемых источников реагентов: - от 4 до 8;

Параметры источника плазмы: -  мощность – 300 Вт;  тип: полый катод (hollow cathode).

Продукция 3: Вакуумный аппарат для осаждения тонких пленок методами атомно- или молекулярно- слоевого осаждения на дисперсных и порошковых подложках (Порошковое АСО/МСО). Разрабатываемое порошковое АСО/МСО оборудование предназначено для нанесения керамических и органонеорганических функциональных тонких пленок на дисперсные наноматериалы и порошки. Применение как для производства, так и научно-исследовательских и опытно-конструкторские работ (НИОКР) в производстве продвинутых катализаторов, индикаторов, композиционных материалов, катодов для литий ионных батарей.

Тип и размер напыляемых частиц: - размер (мин.): 100 нм-1 мкм; 

объем порошка (макс.): 50–75 см3;

Рабочая температура: - от комнатной до 400°С:

Общее количество нагреваемых (до 190°С) и не нагреваемых источников реагентов:  от 4 до 8.